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高密度(HD)型SRAMセルのバタフライ曲線。VLSI技術シンポジウムの論文集から
連載福田昭のセミコン業界最前線
IntelとSamsungが7nmロジック量産への適用を目指すEUV露光技術
2017年3月17日
次世代モバイルを実現する7nmのSRAM技術をTSMCとSamsungが公表
2017年2月16日
連載後藤弘茂のWeekly海外ニュース
7nmプロセス前倒しへと加速するTSMCのプロセスロードマップ
2016年11月28日
後藤弘茂のWeekly海外ニュース
5nmプロセス世代のトランジスタが見えてきた「Nanosheet」技術
2017年7月28日
