10月25日(現地時間)発表

　米Intelは25日(現地時間)、米国アリゾナ州チャンドラーのFab 32にて、45nmプロセスルールを採用したCPUの生産を開始した。

　Fab 32では、ハフニウム系のHigh-k素材とメタルゲートの採用により、リーク電流の低減とスイッチング速度を向上させたCPUや組み込み向けの超低電圧版プロセッサが生産される。45nmプロセスを採用した同社初のCPUは11月12日(米国時間)の発表が予定されている。

　Fab 32は2005年7月に30億ドルの工費をかけ、300mmウェハ対応の生産施設として建造を開始。敷地面積は約93,000平方m、うちクリーンルームは約17,000平方m。300mmウェハ対応としては同社で6番目の施設となる。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20071025corp.htm
□ニュースリリース(和文)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2007/071026.htm
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http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2005/0726/intel2.htm

(2007年10月26日)

[Reported by ishid-to@impress.co.jp]