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IntelとTSMC、Samsungの各ノードの比較。横はデバイスピッチまたはCPP(Contacted Poly Pitch)、縦は最小メタルピッチのサイズを示すPDF版はこちら
連載後藤弘茂のWeekly海外ニュース
GPUアーキテクチャにも影響を及ぼすプロセス技術の問題
2014年9月24日
なぜNVIDIAのMaxwellは28nmでAppleのA8は20nmプロセスなのか
2014年9月22日
iPhone 6sは性能と効率が大きく向上するFinFETのA9へ
2014年9月18日
IntelとTSMC/Samsungが3Dトランジスタで激突
2014年9月3日
2015年のモバイルSoCやGPUを進化させるファウンダリのFinFETプロセス
2014年10月14日