エルピーダ、65nmプロセスによる1Gbit DDR2 SDRAMを開発
11月7日 発表 エルピーダメモリ株式会社は7日、65nmプロセスによる1Gbit DDR2 SDRAMを開発したと発表した。2007年12月よりサンプル出荷を、2008年第1四半期より量産を開始する。 65nmプロセスで製造され、世界最小という1Gbit DDR2 SDRAMチップ。2006年12月に開始した70nmプロセス量産品の実測データをもとに、技術を積み上げることで65nmプロセスの開発に成功した。 65nmプロセスは70nmプロセスと同様の製造装置で量産が可能なほか、広島エルピーダの量産ラインでプロセス開発を行なうことで、スムーズな量産移行を見込んでいる。 同社 プロセス関連総括 執行役員 五味秀樹氏は、「1Gbit DDR2 SDRAMは65nmの新プロセスと従来より培ってきた設計技術により、世界最小のチップを実現した。エルピーダは、1Gbitへの世代交代を早め、ローコストかつハイパフォーマンスな1Gbit DRAMを生産できる体制を整えた」とコメント。2008年第2四半期には、台湾レックスチップにも同技術を導入し、量産の拡大を図る。 □エルピーダメモリのホームページ (2007年11月7日) [Reported by matuyama@impress.co.jp]
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