今回開発したナノホール列の電子顕微鏡写真

1月10日　発表

　株式会社山形富士通、株式会社富士通研究所、財団法人神奈川科学技術アカデミーは10日、次世代HDDの記録媒体向けの陽極酸化アルミナナノホールの一次元配列において、世界で初めて25nmの間隔のナノホール列の形成に成功したと発表した。

　垂直磁気記録のメディアでは、磁性材料を人工的に規則正しく並べたパターンドメディアが必要とされている。アルミニウムを酸化したアルミナでは、直径が数nmサイズの無数の細孔が形成されており、この細孔に磁性金属を充填させることでパターンドメディアの実現が期待されていた。

グルーブ内配列模式図 1列配列(a)と2列配列(b)

　しかし、アルミナのナノホールは、自己組織化的に蜂の巣状に形成されるため、円周方向に磁気記録するHDDメディアには不向きだった。研究グループではこれまでアルミニウム表面にライン状の凹凸パターンを形成し、1列のアルミナナノホールを配列する技術を開発したが、一次元配列の間隔は45nmが限界だった。

　今回、陽極酸化条件を最適化することにより、グルーブ内に2列のナノホールを形成し、間隔の微細化に成功。これにより現在の電子線描画の限界に近い50nm間隔の凹凸ラインでも、凹部の幅25nmの両側にナノホール列を形成し、25nm間隔を実現した。

　これにより、1インチあたり1Tbitの記録密度を実現でき、現行製品の5倍以上の記録容量が実現できるとしており、今後実用化に向けて、ナノホールを円周方向に配列し、軟磁性下地膜形成を含む記録媒体を作成する予定。

□富士通のホームページ
http://jp.fujitsu.com/
□ニュースリリース
http://pr.fujitsu.com/jp/news/2007/01/10-1.html
□山形富士通のホームページ
http://jp.fujitsu.com/group/yfl/
□富士通研究所のホームページ
http://jp.fujitsu.com/group/labs/
□神奈川科学技術アカデミーのホームページ
http://www.newkast.or.jp/
□ニュースリリース
http://www.newkast.or.jp/kisya/press_070110.html
□関連記事
【2005年4月5日】HGST、3.5インチ1TB HDDを実現する垂直磁気記録技術
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2005/0405/hgst.htm

(2007年1月11日)

[Reported by ryu@impress.co.jp]