リチャード・チャンCEO

11月21日　実施

　中国のファウンダリ企業Semiconductor Manufacturing International Corporation(SMIC)のリチャード・チャンCEOが21日、来日し都内で記者会見を行なった。会見では2005年第3四半期までの実績を紹介したほか、同社の今後の展開などについて説明した。

　同社は2000年に設立され、中国の北京、天津、上海、成都に製造拠点を置くファウンダリ製造専門企業で、一般ロジック、フラッシュメモリ、DRAM、CMOSイメージセンサーなどの製造を行なっている。現在では、0.35μm～90nmの製造プロセスを提供しており、エルピーダメモリ、富士通、Broadcom、Infineon、Samsungなどの企業と技術または製造の提携をしている。

　フロントエンド(製造)をメイン事業としており、生産能力は2005年第3四半期で、200mmウェハは124,000枚/月、300mmウェハは21,600枚/月(200mmウェハ換算)となっている。バックエンド(開発/設計/テスト)なども行なっているが、総売上げの5～6%程度だという。

　売り上げは、2005年第3四半期では3億1,000万ドルに達し、同社過去最高の売り上げを記録した。しかし、現在は設備投資の原価償却が売り上げの62%を占め、赤字が続いているという。チャン氏は、「2006年は50%、2007年には40%に下がる。2008年にはほとんど償却が完了し、他社とほぼ同じ25%前後の水準に落ち着く。赤字も黒字へと転換するだろう」との見解を示した。

同社の生産能力の推移	売り上げ推移

　同氏は、今後操業予定のFabについても紹介し、「凸版印刷との合弁会社“Toppan SMIC Electoronics Shanghai(TSES)”も2005年8月に製造用機器の搬入を終え、第4四半期よりCISカラーフィルターおよびマイクロレンズの製造を開始する。また、UTACとの協業によるアセンブリとテスティングを行なうAT2も10月に建設を終え、第4四半期より操業開始する」とした。

　また、エルピーダメモリ(0.10μm、512Mbit DDR2)およびInfineon(0.11μm、512Mbit DDR2)の製造に携わっている北京Fab12について同氏は、「製造は順調で、2005年末にはエルピーダの90nmプロセスのDRAMを製造開始する。2006年は全Fabに10億ドルの設備投資を行なう予定で、うちエルピーダのDRAM生産への具体的な投資額は言えないが、同DRAMの生産能力を3.5倍に引き上げる」との目標を掲げた。

凸版印刷との合弁によるFab9。CISカラーフィルターおよびマイクロレンズの製造を行なう	UTACとの協業によるAT2。半導体の最終アセンブリとテスティングを行なう	エルピーダとInfineonのDRAMを製造している北京Fab12

□SMICのホームページ(英文)
http://www.smics.com/
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(2005年11月21日)

[Reported by ryu@impress.co.jp]