5月6日 発表

　エルピーダメモリ株式会社は6日、次世代メモリ製造・開発において台湾ProMOS Technologiesと戦略的提携に基本合意したと発表した。

　この合意に基づき、エルピーダはProMOSへの0.10μm以下のプロセスの技術供与を行なう。また、両社で次世代DRAMのプロセスに関する共同開発を行ない、ProMOSはエルピーダへ製品を供給する。

　エルピーダは、この提携により「設備投資負担なしで生産能力を確保することができ、顧客サービス、市場プレゼンスの向上が実現できる」としている。

　最終合意は2003年第3四半期末までに締結の予定。

　ProMOS Technologiesは、独Infineonと台湾Mosel Vitelicの合弁企業。

□エルピーダメモリのホームページ
http://www.elpida.com/ja/
□ニュースリリース
http://www.elpida.com/ja/news/2003/05-06.html
□ProMOSのホームページ(英文)
(5月6日現在、この件に関する情報は掲載されていない)
http://www.promos.com.tw/
□関連記事
【2002年3月12日】Infineon、生産量拡大のためWinbond、Mosel Vitelicと提携
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2002/0312/infineon.htm

(2003年5月6日)

[Reported by wakasugi@impress.co.jp]