試作した3次元構造NANDフラッシュメモリのチップ写真。製造技術は60nm CMOS。チップ寸法は10.11×15.52mm。メモリセルアレイの領域が少なく、周辺回路の領域が大きい

試作した3次元構造NANDフラッシュメモリのチップ写真。製造技術は60nm CMOS。チップ寸法は10.11×15.52mm。メモリセルアレイの領域が少なく、周辺回路の領域が大きい