6月14日(現地時間)発表

　米Intelは14日(現地時間)、300mmウェハと90nmプロセスルールに対応したアイルランドのFab 24の操業を開始したと発表した。

　Fab 24は、同社で4番目の300mmウェハ対応かつ、3番目の90nmプロセスルールに対応した半導体工場となる。同社は5月、Fab 24に20億ドルを投じ65nmプロセス対応と同敷地内へのFab 24-2の建設を発表している。

　同社の300mmウェハ施設はアイルランドのほか、米オレゴン州のD1CとD1D、ニューメキシコ州のFab 11Xが稼働中。4月には米アリゾナ州のFab 12を300mmに転換すると発表している。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20040614corp.htm
□ニュースリリース(和文)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2004/040614.htm
□関連記事
【5月20日】Intel、65nmプロセス製造技術に向け20億ドルを投資
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2004/0520/intel.htm
【4月22日】Intel、アリゾナのFab 12を300mmウェハに転換
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2004/0422/intel.htm

(2004年6月15日)

[Reported by yamada-k@impress.co.jp]