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Intel、65nmプロセス製造技術に向け20億ドルを投資5月19日(現地時間)発表 米Intelは19日(現地時間)、アイルランド事業所の製造施設に20億ドルの追加投資を行なうと発表した。投資は、新工場Fab 24-2の建設と、65nmプロセス製造技術の導入に充てられる。 これにより、クリーンルームは約5,600平方m増床され、既存のFab 24と新設のFab 24-2の両設備において65nmプロセス製造技術が導入される。新施設での製造は2006年上半期開始の予定。 □Intelのホームページ(英文) (2004年5月20日) [Reported by wakasugi@impress.co.jp]
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