11月16日 発表

　NECエレクトロニクス株式会社は16日、40nmプロセス製造のシステムLSIの生産を決定したと発表した。製造は100%子会社の山形日本電気株式会社(NEC山形)で行なわれる。2007年度に100億円を投じ、現行の生産ラインに40nmプロセス対応の液浸ステッパーなどを導入した。

　同社はすでに55nmプロセスでのサンプル出荷を行なっており、その製造施設で使用している液浸露光の技術、High-kゲート絶縁膜などを40nmにも適用可能なため、量産展開を決めた。同社の製造能力は1カ月13,000ウェハ(300mm)で、そのうち2,000ウェハを40nmプロセス品に対応可能としている。

　生産される品目は、ゲーム機器、携帯機器、デジタル家電向けのシステムLSI、メモリ混載(eDRAM)システムLSIを予定している。40nmプロセスでの製造開始は2008年度末を予定。

　同社は90nmプロセスのeDRAMを、マイクロソフトの「Xbox 360」、任天堂の「Wii」に提供している。

□NECエレクトロニクスのホームページ
http://www.necel.com/
□ニュースリリース
http://www.necel.com/news/ja/archive/0711/1601.html
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http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2006/0510/necel.htm
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(2007年11月16日)

[Reported by yamada-k@impress.co.jp]