12月1日(現地時間)発表

　米Intelは1日(現地時間)、イスラエルのキリヤットガットの同社施設に300mmウェハ、45nmプロセスの製造工場「Fab 28」を建設すると発表した。稼働開始は2008年後半を予定。

　同社の45nmプロセス対応として2番目、300mmウェハ対応として7番目となる施設。工費は38億ドルで、新規雇用2,000人を創出し、イスラエル政府から補助金を受ける予定。クリーンルームの面積は約200,000平方フィート。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20051201corp.htm
□ニュースリリース(和文)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2005/051202.htm
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【7月26日】Intel、アリゾナ州に45nmプロセス向け300mmウェハ工場を建設
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2005/0726/intel2.htm

(2005年12月2日)

[Reported by yamada-k@impress.co.jp]