11月2日(現地時間)　発表

　米Intelは2日(現地時間)、300mmウェハを使用し、65nmプロセス技術に対応した半導体量産製造施設「Fab 12」を操業開始すると発表した。

　Fab 12は、同社で2番目となる300mmウェハ/65nmプロセスに対応する工場で、操業開始に伴い、2004年に発表された20億ドルの投資が完了した。既存の200mm設備を300mmに転換するのは、同社だけでなく、半導体業界でも初としている。

　転換工事の期間中、Fab 12に所属する従業員800人以上がアイルランドやオレゴン州、ニューメキシコ州にある同社の施設に赴き、最新の製造装置や300mm技術の教育などを受けたとしている。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20051102corp.htm
□ニュースリリース(和訳)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2005/051104.htm
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http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2004/0422/intel.htm
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(2005年11月4日)

[Reported by ryu@impress.co.jp]