5月19日(現地時間)発表

　米Intelは19日(現地時間)、アイルランド事業所の製造施設に20億ドルの追加投資を行なうと発表した。投資は、新工場Fab 24-2の建設と、65nmプロセス製造技術の導入に充てられる。

　これにより、クリーンルームは約5,600平方m増床され、既存のFab 24と新設のFab 24-2の両設備において65nmプロセス製造技術が導入される。新施設での製造は2006年上半期開始の予定。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20040519corp.htm
□ニュースリリース(和文)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2004/040520.htm
□関連記事
【2003年3月10日】【元麻布】Fabから予測する今後のIntel
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2003/0310/hot250.htm

(2004年5月20日)

[Reported by wakasugi@impress.co.jp]