社のプロセス技術の比較。指標となるミニマムメタルピッチ(最小配線間隔:Minimum Metal Pitch)とコンタクテッドゲートピッチ(ゲート間隔:Gate pitch/CPP)、それにフィンピッチ(フィン間隔:Fin Pitch)を比べている<BR>PDF版は<span class="img-inline raw"><a href="../p17.pdf" ipw_status="1" ipw_linktype="filelink_raw" class="resource">こちら</a></span>

社のプロセス技術の比較。指標となるミニマムメタルピッチ(最小配線間隔:Minimum Metal Pitch)とコンタクテッドゲートピッチ(ゲート間隔:Gate pitch/CPP)、それにフィンピッチ(フィン間隔:Fin Pitch)を比べている
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