マイクロプロセッサのシリコンダイ面積の変化。45nmプロセスのマイクロプロセッサを100平方mmと仮定して規格化したもの。32nmプロセスと22nmプロセスでは0.62倍と小さくなってきた。14nmプロセスでは0.46倍と小型化ペースが加速し、10nmプロセスでは0.43倍と前の世代に対する縮小ペースがさらにアップしている。同じイベントでKaizad R. Mistry氏が示したスライド
