ニコン、450mmウェハ推進団体から液浸露光装置を受注

　株式会社ニコンは、SUNY研究財団(Research Foundation for the State University of New York)との間で、450mmウェハ対応ArF液浸露光装置の販売およびウェハパターニングの受託についての契約を締結したことを発表した。

　この450mmウェハ対応ArF液浸露光装置は、半導体主要5社(IBM、Intel、GLOBALFOUNDRIES、Samsung、TSMC)による450mmウェハ推進団体「Global 450 Consortium」(G450C)においてデモやプロセス開発、評価に使用される。装置の出荷開始は2015年4月の予定。

　ニコンにとって450mm対応ArF液浸露光装置の販売契約締結は、Intelからの受注に次ぐもの。ニュースリリースの中では、2017年の量産出荷に向けて、ほかのデバイスメーカーからの受注にも期待を寄せている。

　450mmウェハについてはこのほか、蘭ASMLが対応EUV露光装置開発の共同出資プログラムを実施し、主要半導体メーカーが出資を行なっている。