12月9日(現地時間)発表

　米Intelは9日(現地時間)、次世代の32nmプロセスの開発を完了したと発表。2009年第4四半期より、このプロセスを採用したCPUの製造を開始する。

　同社は2年おきにプロセスの縮小とマイクロアーキテクチャの刷新を行なう「TICK-TOCK戦略」を採用しており、今回の32nmも45nmプロセスから2年後に投入されることになる。

　同プロセスでは第2世代のHigh-k金属ゲート技術と193nmの液浸露光技術を採用。45nm世代から性能と電力効率をさらに高めているという。詳細は、米国で次週より開催される国際会議「International Electron Devices meeting」で明らかにされる。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20081209corp.htm

(2008年12月10日)

[Reported by wakasugi@impress.co.jp]