4月7日 発表

　株式会社富士通研究所は7日、HDDのディスク潤滑剤に含まれる分子の高さを制御し、従来の70%以下に抑える技術を開発したと発表した。同社は、2010年以降に1Tbit/平方インチという記録密度を実現するHDDに向けて、同技術の実用を目指す。

開発した潤滑剤技術

　現行のHDDのディスクと、データの読み書きを行なう磁気ヘッドとの隙間は約10nmだが、今回の新技術を採用した潤滑剤を用いることで、さらにディスクと磁気ヘッドの距離を縮めることが可能になり、ディスクの高密度化、大容量化を実現できる。

　HDDのディスク媒体は、表面から順に、高さ約2nmの潤滑膜、5nm以下の保護膜、磁性層という構成で、現行のHDDでは保護膜から磁気ヘッドの間隔が約10nmとなっている。これは、磁気ヘッドをジャンボジェット機に例えると、地表の0.6mm上を浮上するのに相当するという。

　ディスクの記録密度を高めるためには、磁気ヘッドをさらにディスクへと近づける必要があり、今回の新技術は潤滑膜を薄くするもの。「吸着基」と呼ばれる潤滑剤の分子同士を連結させる物質を導入し、潤滑剤が高さ方向に伸びるのを抑制することが可能になる。加えて、複数の分子を連結させることで分子量が増加して潤滑剤の蒸発も抑えられるという。

　この結果、現行の潤滑剤と比較して高さを70%以下に抑えるとともに、分子量を大きくしても分子の高さがほとんど変わらないという特性もあるとしている。さらに、潤滑膜の製造プロセスも現行と変わらないというメリットもある。

□富士通研究所のホームページ
http://jp.fujitsu.com/labs/
□ニュースリリース
http://pr.fujitsu.com/jp/news/2006/04/7.html

(2006年4月7日)

[Reported by yamada-k@impress.co.jp]