2月28日　発表

　米Intelは28日(ベトナム時間)、ベトナムのホーチミン市に半導体の組み立て/テスト(後工程)を行なう施設を建設すると発表した。

　投資額は3億ドルで、最終的に1,200人の雇用を見込んでいる。施設の建設はまもなく着工される予定。

　新施設はペナンとクリム(マレーシア)、カビテ(フィリピン)、成都と上海(中国)、サンホセ(コスタリカ)に続き7番目の後工程施設の拠点となり、同社が推進している世界的な製造能力の増強計画の一翼を担うことになる。

　同社は、2006年中に世界全体で60億ドル超の設備投資を行なう計画としている。

□Intelのホームページ
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20060228corp.htm
□ニュースリリース(和訳)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2006/060228.htm

(2006年2月28日)

[Reported by ryu@impress.co.jp]