2月3日　発表

　エルピーダメモリ株式会社は3日、米Ovonyxと相変化メモリに関する技術契約で基本合意したと発表した。

　Ovonyxの技術は、CD-RWやDVDディスクで利用されている相変化膜を不揮発性半導体メモリに応用し、高速な書き込みや消去を可能にするもの。また、製造が容易で、いくつかのマスクステップを追加するだけで組み込みチップの設計ができるとしている。

　エルピーダは、この合意により自社のDRAM技術と組み合わせることで、次世代超低消費電力メモリの開発に取り組むとしている。

□エルピーダのホームページ
http://www.elpida.com/ja/
□ニュースリリース
http://www.elpida.com/ja/news/2005/02-03.html
□Ovonyxのホームページ(英文)
(2月3日現在、この件に関する情報は掲載されていない)
http://www.ovonyx.com/

(2005年2月3日)

[Reported by ryu@impress.co.jp]